Prof. dr. Alenka Vesel

Alenka Vesel je zaposlena na Odseku za tehnologijo površin (F4), Instituta Jožef Stefan. Raziskovalno se ukvarja s področjem karakterizacije neravnovesnih plinskih razelektritev (plazem), interakcije plazemskih radikalov s površinami in plazemsko modifikacijo površin, karakterizacijo površin ter razvojem različnih plazemskih tehnologij. Pedagoško je aktivna na Mednarodni podiplomski šoli Jožefa Stefana.

Raziskovalni program: Tankoplastne strukture in plazemsko inženirstvo površin
Tema usposabljanja: Materiali za shranjevanje energije

Delo mlade raziskovalke oziroma raziskovalca bo potekalo v interdisciplinarni skupini, ki se ukvarja z razvojem novih plazemskih tehnologij in preiskavami površin materialov. Kandidatka oz. kandidat bo pri svojem delu uporabljal najsodobnejšo opremo in sodobne znanstvene metode. Raziskovalno delo bo potekalo na Odseku za tehnologijo površin, doktorski študij pa na Mednarodni podiplomski šoli Jožefa Stefana. Na voljo bo tudi možnost izobraževanja v tujini oz. opravljanja dela raziskav v tujih laboratorijih.

Kandidatka oz. kandidat lahko izbira med različnimi temami:

  • sinteza in analiza elektrod iz nanomaterialov sintetiziranih v neravnovesni plinski plazmi za bodočo uporabo v superkondenzatorjih
  • raziskave kinetike površinskih procesov med obdelavo površin z neravnovesno plinsko plazmo
  • plazemska pretvorba plinov in zelena sinteza biogoriv in vodika